PFCs ABATEMENT SYSTEM



제품소개


PFCs처리설비는 반도체, 디스플레이 제조공정에서 발생하는 온실가스(PFC, HFC, SF6, NF3)를 처리하는 시스템입니다.

제조 공정 발생 온실가스는 습식 또는 건식 식각(Etching)공정에서 발생합니다. 고농도의 산성가스(HF, HCL), 극초미세먼지(0.1㎛)가 포함되어 있습니다.

(주)대양이엔아이는 고온 열분해 및 급속 냉각 기술을 사용하여 분해과정에서 발생하는 부식문제를 해결함으로써 무중단 운전이 가능함을 입증하였습니다. 

또한, 급속 냉각 기술로 온실가스 재결합을 원천 방지하여 고효율의 DRE(Destruction Remaval Efficiendy, 제거효율)를 달성할 수 있습니다.


제품특징


·  난분해성 온실가스를 안정적으로 연속 고효율 제거가 가능합니다.

·  고온 가스를 70℃ 이하로 급속 냉각하여 온실가스 재결합과 2차 오염물질인 다이옥신 생성을 방지합니다.

·  흑연 재질의 Down comer로 고온부식성가스를 상온일반가스로 전환하여 설비 부식문제를 해결하였습니다.

·  빠른 연소 속도와 Short Flame Burner를 적용하여 연료와 공기를 순간적으로 혼합함으로써 NOx 발생을 최소화 하였습니다.

·  전원 차단시 Quencher에 물이 차 있어 화재를 방지하며, 공장의 전체 전원이 차단되어도 PFCs 가스 Blower는 UPS 전원 및 독립된 비상전원으로 가동하여 위험없이 안전한

   배출이 가능합니다. 또한 EMergency water tank를 구비하여 용수 공급 문제 시 비상 용수를 공급하여 장비를 보호합니다.


공정흐름도

상세관통도

적용분야

반도체 및 디스플레이





Tel. 031-498-8787 | Fax. 031-357-7009 | dy@rto.co.kr
본사&공장. 경기도 화성시 송산면 송산포도로 271

기업부설연구소. 대전 유성구 테크노3로 34, 본관 4층 | 광명사무소. 경기도 광명시 하안로 60 광명 SK테크노파크 D동 1411호

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